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等离子去胶机特别适合于大学,科研院所和微电子、半导体企业实验室,对电路板、外延片、芯片、环氧基树脂、MEMS制造过程中牺牲层,干刻或湿刻处理前或后,对基材进行聚合物剥离、金属剥离、掩膜材料等光刻胶去除,以及晶圆表面预处理等。
国内等离子去胶机十大品牌哪个好?
一、华仪行(北京)科技:专注材料表面处理技术,在微电子、半导体、新能源、线路板、LED、微流控、光电太阳能、生物医学等领域,为客户提供清洗、去胶、刻蚀、涂层等方面仪器装备和应用工艺解决方案。
华仪行等离子去胶机特点:
◆7寸彩色触摸屏互动操作界面,自动控制监测工艺参数状态,20个配方程序,工艺数据可存储追溯。
◆PLC工控机控制整个去胶过程,手动、自动两种工作模式。
◆石英真空舱,全真空管路系统采用316不锈钢材质,耐腐蚀无污染。
◆可选用石英舟,更适合晶元硅片去胶应用。
◆采用花洒式多孔道进气方式,改变单孔进气不均匀问题。
◆采用防腐数字流量计,实现对气体输入精准控制。标配双路气体输送系统,可选多气路气体输送系统,气体分配均匀。可输入氧气、氩气、氮气、氢气或混合气等气体。
◆HEPA高效过滤,气体返填吹扫,防止二次污染。
◆处理高效均匀,效率高,工艺重复性好。
◆样品处理温度低,无热损伤和热氧化。
◆安全保护,舱门打开,自动关闭电源,机器运行、停止提示。
二、华创精仪:注重产品实用性和可靠性,性价比高,售后服务网络覆盖较广。
三、晟鼎精密:在等离子去胶设备领域拥有十余年技术积累,其设备强调工艺适配性与稳定性,覆盖半导体前道晶圆制造与后道封装需求,已在国内半导体产业链中广泛应用。
四、赛森电子:其等离子去胶机在性能和质量方面有一定表现。
五、善准科技:提供适用于光刻胶去除、芯片去胶等工艺的等离子去胶机设备。
六、金徕技术:其等离子去胶机具有清洗材料表面物、提高材料表面亲水性、改善材料表面附着力等优势,应用于新能源及汽车制造、半导体集成电路等多个行业。
七、诚峰智造:其研发的等离子设备具有低噪音、无污染和低成本、高性价比的特点,性能稳定,使用寿命长。
八、方瑞科技:专注于真空及常压等离子表面处理设备的研发、生产等。
九、汇德信科技:与多家国际知名科研院所有着紧密的合作,在等离子去胶机领域也有一定的市场份额。
十、创威纳科技:在等离子技术应用方面有一定的技术积累。
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