光学镀膜行业中国发展前景？

乔帮主

小弟收到日本某光学镀膜厂商的offer，工作地点在日本，和自己的专业算是半对口。开的待遇对于应届博士来说不算太多，和人民币才30万多一点。自己对光学还挺感兴趣的，别的offer也和光电有关。感觉这个公司发展的很快，但是对光学镀膜这个具体的行业在国内的发展现状和未来前景还不太了解（未来打算回国发展），希望有人能指点迷津，谢谢！

原文地址：https://www.zhihu.com/question/282037968

长长的路

在环保驱动下，市场积极探索更节能环保的表面处理工艺。与传统电镀相比，真空镀膜具有镀层薄，速度快，附着力好等优势，适合金属、塑料等表面处理。且没有废水污染，在环保上具有一定优势，因此受到了市场的追捧。

常见的真空镀膜工艺分成四类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜和化学气相沉积。它们各有优势和针对性，如何选择合适的真空镀膜成为了生产企业发展和创新中的一道必选题。
一、真空蒸发镀膜
真空蒸发(Vacuum Evaporation) 镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质，使之升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜，或加热蒸发镀膜材料的真空镀膜方法。
优点：设备简单、操作容易；薄膜纯度高、厚度可较准确控制；成膜速率快，效率高。
缺点：密度差（只能达到理论密度的95%）；薄膜附着力较小。
目前，真空蒸发镀膜更多的应用于建筑工程五金、卫浴五金、钟表、小五金，甚至轮毂、不锈钢型材、家具、照明设备及酒店用品、装饰品的表面处理。
二、真空溅射镀膜
用几十电子伏或更高动能的荷能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够高的能量而溅出进入气相，这种溅出的、复杂的粒子散射过程称为溅射。真空溅射镀膜就是利用溅射现象实现制取各种薄膜。
优点：膜厚可控性和重复性好；与基片的附着力强；膜层纯度高质量好；可制备与靶材不同的物质膜。
缺点：成膜速度比蒸发镀膜低；基片温度高；易受杂质气体影响；装置结构较复杂。
目前最常用的溅射镀膜技术是磁控溅射镀膜技术。这种技术能增加与气体的碰撞几率，提高靶材的溅射速率，最终提高沉积速率。因此更适用于具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的功能性薄膜、装饰领域、微电子领域。
三、真空离子镀膜
真空离子镀膜是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术。通过在等离子体中进行整个气相沉积过程，真空离子镀膜工艺大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用领域。
优点：附着力强，不易脱落；改善了膜层的覆盖性；镀层质量高；成膜速度快；密度高、晶粒小。
缺点：基板须是导电材料。
由于镀膜性能出色，真空离子镀膜有着更广的应用领域，目前主要应用于：机械零件、飞机、船舶、汽车、排气管、飞机发动机、高速转动件、工具、超硬工模具等。




来源：真空行业知识圈

四、化学气相沉积（CVD）
CVD技术利用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上发生化学反应，从而在基体表面上生成不挥发的涂层。
优点：操作简单、灵活性强，适用于单一或复合膜层和合膜层；适用性广泛；沉积速率可达每分钟几微米到数百微米，生产效率高；适用于涂覆形状复杂的基体；涂层致密性好。
缺点：沉积温度高，易导致基材性能下降；反应气体、反应尾气可能具有一定的腐蚀性、可燃性及毒性；镀层很薄。
CVD法主要应用于两大方向：
1、制备涂镀层，改善和提高材料或零件的表面性能提高或改善材料或部件的抗氧化、耐磨、耐蚀以及某些电学、光学和摩擦学性能。
2、开发新型结构材料。目前CVD技术在保护膜层、微电子技术、太阳能利用、光纤通信、超导技术、制备新材料等许多方面得到广泛的应用。
另外，在制备粉体材料方面，利用高效稳定的催化剂促进CVD制粉过程，或与物理方法结合，在低温、高真空条件下制备粉体材料也成为未来化学气相沉积技术发展的方向。
来源：真空行业知识圈

大力水手

4月20日晚，中国激光杂志社重磅发布“2022中国光学十大进展”。
经过评审委员会多轮遴选，“微腔光梳驱动的新型硅基光电子片上集成系统”等10项前沿进展入选“2022中国光学十大进展”（基础研究类）；“集成化成像芯片实现像差矫正三维摄影”等10项进展入选“2022中国光学十大进展”（应用研究类）。
获奖名单以网站链接为准：
https://www.opticsjournal.net/CL/ZGGX?type=view&postid=PT230420000003jGmJp
基础研究类
（10项）
1.北京大学王兴军团队联合加州大学圣塔巴巴拉分校John E. Bowers团队，攻关解决微腔光梳简易鲁棒激发与长时间稳定、面向光梳光源的硅基系统设计、硅基片上可重构多维光谱整形技术等难题，在国际上首次实现了由克尔微腔光梳驱动的新型硅基光电子片上系统，有望直接应用于数据中心、5/6G信号处理、自动驾驶、光计算等领域，为下一代片上光电子信息系统提供了全新的研究范式和发展方向。


2.上海理工大学詹其文带领的纳米光子学团队基于麦克斯韦方程组和光学保角变换，首次在理论上完整推导并在实验上实现了优美的光学涡环结构。该研究工作为三维复杂时空光场的生成和表征提供了崭新的思路，对环状对称电动力学、环状对称等离子物理、光学对称和拓扑、量子物理、天体物理等理论研究，以及光学传感、光操纵、光信息与能量传递等应用研究都将具有重要且深远的意义。


3.清华大学精密仪器系孙洪波、林琳涵课题组首次提出了利用光生高能载流子调控纳米材料的表面化学活性并实现化学键合，由此实现了半导体量子点等功能纳米粒子的三维激光装配。这一技术具备真三维、高纯度、高分辨率、异质异构集成的技术优势，开辟了功能纳米器件制备工艺的新途径，在片上光电器件集成、高性能近眼显示等领域具有广泛的应用前景。


4.南京大学张勇领衔的研究团队发展了一种非互易激光极化铁电畴技术：将飞秒脉冲激光聚焦于铌酸锂晶体中，在晶体内部形成了一个有效电场，实现了三维纳米铁电畴的可控制备。加工精度达到了30纳米，远远突破衍射极限，且可以实现铁电畴结构的修正与重构。这一技术解决了传统极化工艺仅限于在二维平面内以微米精度加工铁电畴结构的难题，为三维集成光电器件的发展提供了新的技术支撑。


5.高纯度超集成手性光源领域取得重要研究进展
哈尔滨工业大学（深圳）宋清海团队基于连续域中束缚态自身的物理特性，实现了高纯度、高Q值与高方向性的手性荧光到激光的出射。在无需自旋注入的情况下，即可实现控制自发辐射和激光的光谱、远场以及自旋角动量。这种方法对改善当前手性光源的设计，并促进其在光子系统与量子系统中的应用具有重要意义。


6.中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室张辉领衔的研究团队依托于上海超强超短激光实验装置(羲和激光，SULF) ，在首轮磨合实验中利用SULF-10 PW激光轰击微米金属靶，在靶后法线鞘层加速机制下获得了截止能量达62.5 MeV的质子束，该结果达到国内领先水平，进入国际前列。未来将通过进一步优化，获得百MeV级的高能质子束，切实推动激光质子源在聚变能源、肿瘤治疗等重要领域的应用。


7上海交通大学刘峰、陈民和李博原课题组通过引入圆偏振预脉冲，成功实现对微米尺度预等离子体的主动调控，构建出合适的纵向密度分布，解决了高次谐波产生受限于激光对比度的难题，实验验证了产生高重频、高亮度极紫外超快辐射源的新方案。


8.陕西师范大学物理学与信息技术学院张正龙、郑海荣团队，依托自主搭建的高分辨原位光谱系统，在纳米光学领域取得了突破性进展。利用等离激元倾斜纳米光腔，将稀土离子f-f 跃迁发光寿命压缩至50 纳秒以下，同时获得1000余倍的量子产率增强。该成果被审稿人评价为稀土发光领域“里程碑”式的工作，对拓展稀土发光应用优势，推动量子通讯单光子源、纳米激光器的发展具有重要意义。


9.激光干涉仪的量子超越
上海交通大学物理与天文学院及李政道研究所张卫平团队与合作者，利用其发展的量子关联干涉技术与激光干涉仪巧妙结合，实现了一种超越传统激光干涉仪的新型量子精密测量技术。新方法融合经典-量子优势于一体，原理上可以拓展到LIGO引力波探测器等大型精密测量仪器中，实现对传统干涉技术的升级，向开拓真正有应用价值的量子技术迈出了重要的一步。


10.山东大学于浩海、张怀金团队和南京大学陈延峰团队协同攻关，在激光物理领域取得突破，首次实现基于多声子耦合的激光辐射，在远超荧光光谱的范围获得了宽波段、可调谐激光输出。研究成果拓宽了激光增益范围，阐明了激光晶体中的关键功能基元和序构关系，对于固体激光技术的发展具有重要意义。


应用研究类
（10项）
1.集成化成像芯片实现像差矫正三维摄影
清华大学成像与智能技术实验室方璐、戴琼海团队提出了非相干光下的数字自适应光学新架构，解耦信号采集与像差矫正，首次实现了高速大范围分块像差去除。研制了集成化的元成像芯片，能够实现像差矫正的大视场高分辨率高速三维成像，将传统自适应光学的有效视场直径从40角秒提升至了1000角秒，可广泛用于天文观测、工业检测、医疗诊断等领域。


2.浙江大学邱建荣团队与之江实验室谭德志团队合作，揭示了飞秒激光诱导空间选择性介观尺度分相和离子交换新规律，实现了对玻璃微区元素分布的精细调控，开拓了飞秒激光三维极端制造新技术，构筑了三维发光宽波段连续可调谐纳米晶结构，首次提出并展示这种三维微纳结构在超大容量超长寿命信息存储、高稳定Micro-LED列阵和动态立体彩色全息显示等的前沿应用。


3.南京大学李涛团队研发出一种基于超构透镜阵列的平面广角相机，仅用一微米厚的纳米结构就实现了超过120°视角高质量的广角成像功能。这一全新原理的设计原理成功突破传统商用鱼眼镜头在体积和重量上的限制，展示了超构透镜设计在颠覆性成像技术中巨大的应用潜力。


4.吉林大学张永来领衔的合作团队通过飞秒激光微加工技术，制造具有对数轮廓小眼的三维仿生复眼，突破了三维复眼非平面成像和商用微型CCD/CMOS探测器失配难题，研制了质量仅为230 mg的光电集成微型复眼相机，借助多目视觉原理和神经网络重构算法，实现了对微观目标运动轨迹的三维重构。该成果在医疗内窥成像和微型机器人视觉等前沿领域具有重要意义。


5.光纤量子密钥分发新纪录——无中继安全传输超830公里
中国科学技术大学郭光灿、韩正甫团队通过解决极弱光双场制备和低噪声快速相位补偿难题，突破信噪比限制，创造830公里无中继光纤量子通信世界纪录。相比于国内外其他团队的工作，该成果不仅将无中继传输距离提升了200多公里，而且将成码率提升了50～1000倍，向实现千公里陆基量子通信迈出了重要一步。


6.同济大学物理科学与工程学院王占山和程鑫彬联合复旦大学物理学系周磊，提出了一维多层膜结合二维超表面的准三维亚波长新结构，通过传输波和布洛赫波的高效耦合增强非局域能流调控能力，首次实现了效率优于99%的光频异常反射。研究成果有望推动新型波束扫描系统等仪器装备的发展。


7.浙江大学狄大卫、赵保丹团队利用双极性分子稳定剂抑制离子迁移，首次实现了满足实际应用标准的超长寿命钙钛矿LED。在等同于高亮度OLED的光功率下，这些近红外LED的寿命为32675小时（3.7 年）；在更低的辐亮度下，其寿命预期长达 270 年。这些创纪录的器件在 5 mA/cm⊃2; 的恒定电流下持续工作 5 个月，辐亮度无明显衰减。


8.世界首例铌酸锂薄膜偏振复用相干光调制器
中山大学蔡鑫伦课题组实现了世界首例铌酸锂薄膜偏振复用相干光调制器，该器件具有CMOS兼容驱动的半波电压，110 GHz的调制带宽，这是目前世界上最高性能的超低电压和超大带宽的电光调制器芯片。利用这一芯片，研究团队演示了目前单载波相干传输的最高净速率——1.96 Tb/s。该项研究攻克了在下一代超高速、低功耗的相干光传输系统不可或缺的电光转换器件。铌酸锂薄膜材料及其光子集成技术研究为实现我国光通信产业链自主可控提供了有力保障。


9.首次发现光学微腔中的界面回音壁模式
北京大学物理学院肖云峰团队与中科院半导体所陈幼玲合作，首次发现了光学微腔中的界面回音壁模式。研究人员在微流集成的微泡腔中，将光学回音壁模式的电磁场峰值调控至传感表面，从物理上提高了传感器的光学响应强度，成功实现了具有单分子响应的微流传感器件，在高灵敏度微量检测领域具有广泛的应用前景。


10.华东理工大学化学与分子工程学院、物理学院、费林加诺贝尔奖科学家联合研究中心朱为宏、郑致刚、Feringa合作，围绕动态可控手性液晶光学微结构，从材料设计、制备和微结构的外场控制入手，解决传统液晶体系光效率低的问题，赋能液晶微结构的光控宽动态域，发展可逆、可擦、渐变、结构叠加与嵌入的多重防伪新技术，为解决我国在高端防伪技术领域面临的材料瓶颈提供了可供借鉴的技术方案。


“中国光学十大进展”评选活动由中国激光杂志社发起，至今已成功举办17届，旨在促进中国优秀光学研究成果的广泛传播，推动中国光学事业的发展。凭借高学术水平的候选成果，以及严格公正的评审机制，这一奖项备受业界认可，具有高度的公信力和影响力。
本文经授权转载自微信公众号“中国激光杂志社”，编辑：徐睿。

同花顺

我国光学膜应用领域广泛 但在高端市场缺乏竞争力

        光学膜属于光学介质材料，指附着在光学器件表面的厚度薄而均匀的介质膜层。光学膜在光学基膜基础上加工完成，具有表面光滑、能提高光学效率、减反射等特点，属于技术难度较高的薄膜产品。







        根据新思界产业研究中心发布的《2022-2027年中国光学膜产品市场分析可行性研究报告》显示，光学膜作为高端薄膜产品，在光学工程领域应用广泛，包括光电成像与显示、微光与红外热成像及其他与光学有关的仪器。随着生产研发技术不断突破创新，光学膜在电子产品、国防军事、公共交通、照明等领域也获得广泛使用。随着电视、电脑等产品市场需求日益旺盛，光学膜作为为LCD液晶显示面板重要原材料，获得广阔市场空间。2021年我国光学膜市场规模达586.1亿元，同比增长46.5％。

         按照应用领域不同，光学膜可分为偏光片、配向膜、反射膜、黑白胶、增亮膜、相位插板等。偏光片作为光学膜细分产品，采用磨砂处理技术，利用消散表面反光，增加LCD液晶显示器的视角，在显示面板领域应用广泛。在市场需求带动下，偏光片产量不断增长，2021年我国偏光片产量达2.7亿平方米，同比增长78.6％。

         在市场竞争方面，全球光学膜生产企业主要集中于我国、日本、美国和韩国等，包括裕兴股份、双星新材、长阳科技、皖维高新、三菱化学、SKG、3M、IPI等。受研发技术和工艺水平限制，我国光学膜原材料暂无法满足高端产品生产质量需求，需依靠进口市场，这是我国光学膜行业发展面临的主要挑战。

         我国光学膜行业起步较晚，作为实用型光学元件，国家对光学膜行业发展出台众多政策予以扶持。2021年财政部、发改委、工信部、海关、税务总局五部门联合印发《关于2021-2030年支持新型显示产业发展进口税收政策管理办法的通知》，明确提出，对新型显示产业零配件，包括掩模版、偏光片、彩色滤光膜等生产企业进口生产性原材料、消耗品时，免征进口关税。

        新思界行业分析人士表示，随着下游市场快速发展，光学膜市场需求将持续释放，预计未来一段时间，我国光学膜市场将迎来高速增长阶段。但目前，本土企业多布局中低端光学膜市场，在高端市场仍不具竞争优势。在国家政策支持下，光学膜原材料进口规模将有所增长，将对高端光学膜产能提升起推动作用。

同花顺

谢邀，我在某美国公司工作十几年，见证全球镀膜行业的发展。
随着科学的发展，镀膜行业覆盖面非常广。从光通信到荧光，从机械加工（减法）到3D打印（加法），从荧光到拉曼，从3D Max到体感游戏机，从POCT到智能手环，到自动驾驶，到指纹识别等等，新兴行业越来越多（如水质检测），大数据的应用，比如 空间生物学、基因组学每个人身边都有基于镀膜的产品、应用和场景。
应用越来越多，光学设备也越来越多。（比如手机镜头的镀膜），最近两年新冠疫情下的需求井喷（下一代基因测序、核酸监测）。
整体来说，光学镀膜行业，中国这十年以来，尤其是最近五年来发展非常快，很多公司引进了国外的技术、设备、人才，投资，依托高校和各地区的光谷，掌握了硬镀膜的技术，引进了有留学回来的人才，很多公司已经生产出很好的产品了，在很多其他国家和地区的产品上都能看到国内镀膜公司的产品。
我接触到的很多中国光学镀膜公司，转型非常快，展会上偶遇时，我提到的一点建议，中国公司可以在一周内就体现出改变。令人印象非常深刻。
依托高校科研和政府投资，科研成果转换的成果卓越而显著。
基于国内镀膜技术的高端应用，如今年国内的超高分辨率成像系统，微型显微镜系统都陆续量产，里面都有国产镀膜产品。中国拥有全世界最大的市场，同时大型购买上，国家是有保护政策的。
韩国市场、印度市场上，很多市场已经大面积采用了中国国产的镀膜产品，质量、性能、服务、价格、快速反应，成为众多客户口杯相传的选择。
日本的镀膜公司也不错，但是技术层面和中国相差不大，日本的职场文化和贸易模式和中国大相径庭。我建议你的职业选择应该是基于三点选择：钱多、事少、离家近。建议工作地点在中国发展。

感恩由您

光驰？新客隆？该不会是昭和吧………………
镀膜这个行业大有可为，全球来看，中国的技术还处于第二梯队（相对德国美国日本）。最主要的一个问题是国内从业者以大专及以下为主………………所以你的竞争力会很强！
镀膜这个行业今后前景也不错，低端到眼镜片、高端到卫星激光通信、量大的到手机屏幕，都离不开镀膜技术。
国内做镀膜的不少，高学历的主要集中在研究所。你要是能够搞出名堂来，还想回国，大部分企业其实是不需要的，这个很抱歉…………也许会有少部分大企业需要博士吧！能进研究所还是不错的。比如武汉的几个7字头的。你在日本搞几年的话，只要不蹉跎，技术能力可以完爆毕业直接去研究所的那些。