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[分享] 菲林掩膜版与铬掩模版的区别

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发表于 2024-9-13 11:21 | 显示全部楼层 |阅读模式

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菲林掩膜版和铬掩模版是两种不同的掩膜版类型,它们在微电子制造过程中扮演着重要的角色。以下是它们之间的主要区别:
定义与组成
菲林掩膜版:
菲林掩膜版是一种中低精度的掩膜版,通常用于LCD行业、PCB及IC载板等行业。
它由基板和遮光膜组成,基板可以是树脂基板或玻璃基板,遮光膜则是乳胶或硬质遮光膜。
铬掩模版:
铬掩模版是精度最高的掩膜版类型,广泛应用于平板显示、IC、印刷线路板和精细电子元器件行业。
它同样由基板和遮光膜组成,但遮光膜通常是金属铬,这种材料具有更好的耐用性和稳定性。
应用领域
菲林掩膜版:
主要用于中低精度的LCD行业、PCB及IC载板等行业。
铬掩模版:
广泛应用于高精度的平板显示、IC制造、印刷线路板和精细电子元器件行业。
制造工艺
菲林掩膜版:
菲林掩膜版的制造工艺相对简单,通常包括图形设计、图形转换、图形光刻、显影、蚀刻、脱膜、清洗、尺寸测量、缺陷检查、缺陷修补等步骤。
铬掩模版:
铬掩模版的制造工艺较为复杂,除了基本的图形设计和转换外,还需要通过光刻机进行激光光束直写完成客户图形曝光,然后进行显影、蚀刻、脱膜、清洗等步骤。此外,铬掩模版在缺陷修补方面要求更高,通常采用激光气化法、局部曝光法、激光束修补、离子束修补等方法进行缺陷修复。
性能与特点
菲林掩膜版:
适用于中低精度的应用场景,成本相对较低。
铬掩模版:
精度高,耐用性好,适用于高精度的集成电路和其他精密电子元器件的制造。
综上所述,菲林掩膜版和铬掩模版的主要区别在于精度、应用领域、制造工艺和性能特点。选择哪种掩膜版取决于具体的应用需求和制造要求。
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