微流控匀胶机在微流控技术中扮演着至关重要的角色,特别是在PDMS芯片或SU-8模具的制作过程中,其应用广泛且效果显著。以下是对微流控匀胶机的详细介绍: 微流控匀胶机的基本功能和应用场景 微流控匀胶机主要用于在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作过程中,根据所需厚度选择合适的旋涂转速,确保PDMS胶或SU-8胶涂布均匀化。其应用场景包括半导体工艺、制版及表面涂覆等,适用于科研、教育等单位进行科研和教学活动。 旋涂技术的原理和应用 旋涂技术是通过旋转的基底上放置一小滩SU-8光刻胶,通过旋转速度、加速度和SU-8光刻胶的黏度来决定SU-8光刻胶层的厚度。这种方法易于使用且可重复使用,关键在于SU-8光刻胶在基底表面上的均匀分布以及在烘烤期间不发生收缩。 使用范围 匀胶机常常在各类对于材料表面涂覆的均匀性有严格要求的实验或者制造领域得到应用,具体如下: 化工材料薄膜制备工艺:可用于均匀涂覆胶液以制备化工材料薄膜。 生物材料物性分析:在生物材料研究中,可将相关胶液均匀涂覆在材料表面,辅助进行物性分析。 半导体材料研发和制备工艺:在半导体制造过程中,对光刻胶等胶液的均匀涂覆要求极高,匀胶机可满足这一需求。 MEMS微加工:该设备在MEMS微加工方面得到了非常广泛的应用,还能够用来对厚度小于10纳米薄膜进行制备。 匀胶机的特点 功能特点 定时功能:匀胶机具有定时功能,可分别控制时间在1 - 18秒以及3秒 - 1分钟之间,其所指刻度相近于实际时间。 测速准确:采用光电的办法来进行测速,使得光电脉冲产生,通过晶体分频测速有着较高的准确性。 适合流水线工艺:吸片采用电磁阀来对气路进行控制,一个气泵能够同时带几台匀胶机进行工作,对于流水线的工艺非常适合,可提高效率。 低噪音:在对结构进行安装时,采用了减振措施,保证了在运转时有着较低的噪音。 稳定性好:开关电流调速,有着更好的稳定性能,转速调节以数字显示为准,转速在500 - 8000转/分范围内相当稳定。 双转速设计:启动后,先通过低速运转摊开胶,然后自动转换到高速运转,分别能够调节两种转速及相应的时间。 技术特点 转速与厚度控制相关:转速的快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性,设备可调控出不同的旋转速度,使得胶液可以散开到达基底材料的边缘,并达到预定的厚度。 多因素影响薄膜厚度:影响旋涂薄膜厚度的因素较多,包括胶液的挥发性、黏度力,旋转基底的速度和时间等。 免责声明:文章来源汶颢 www.whchip.com以传播知识、有益学习和研究为宗旨。转载仅供参考学习及传递有用信息,版权归原作者所有,如侵犯权益,请联系删除。
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